某半导体集成ic集成ic造成厂在晶圆生产操作过程中，便用硅烷实行硅外加滋生，废气洗涤剂塔引起高盐浓度含硅化工焦化废水。化工焦化废水都具有pH波动性大（2-11）、硅水分含量高的的特点，经典办理最简单的方法易出显硅垢不通情况。 工业废水基本成分及源于 工业废水首要化学成分为： 溶解度性硅酸盐 ：SiO₂溶度达1000-1500mg/L 氢腐蚀钾/氢腐蚀钠 ：洗條剂塔碱酸洗條剂液残余 颗粒物硅 ：納米级SiO₂固体 痕量砷 ：材质沉渣带 操作生产工艺生产流程图 多元化应用"多级采和+膜油烟净化器+减压蒸馏心得"工艺设备： 4级采和 ：用CaO转换pH至4-5，转为硅酸钙乳浊液，硅洗去率60%。 两级采和 ：加Na₂CO₃将pH增强至9，进一部发展剩下的硅，串连用镁剂除砷。 反渗透装置软件系统 ：0.02μm陶瓷厂家膜过滤水纳米技术级硅颗料，通量保持稳定在80LMH。 MVR蒸发掉器 ：精提高盐焦化废水，沉淀出Na₂SO₄副软件，水造纸废水处理率超90%。 结果功效 总硅从1500mg/L降落到5mg/L左右 砷量从0.8mg/L降下来0.01mg/L 整体无积垢运转已超2年 第二年二手回收浓盐酸钠单晶体约800吨