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电子半导体废水怎么处理|电子半导体废水如何处理

该晶圆打造厂建在豫东地,主要是生產的8寸大半导体设备晶圆,平均废水处理对其进行消费量上涨约800吨。在生產的时候中采用大量的氢氧化钠对其进行晶圆蚀刻,以至于废水处理中氟化物质量浓度高达hg200-300mg/L,远超的国家对其进行进行排放细则(10mg/L下面的)。 工业废水材料及渠道 废水处理最主要的根据六个关键环节: 晶圆蚀刻环节 :含高氧浓度氟化物(HF)、氯化铵及几瓶巨资属 化学式机械化镜面抛光(CMP)废液 :含奈米级硅颗料、充分络合剂 机械洁净废水处理方法 :含异丙醇、氯离子等有机的物 清理加工过程过程 用到"无机化学沉积自己+混疑沉积自己+深层活性炭过滤"三级分销进行处理软件系统: 一级通过成绩加工处理 :加药氯化钙和氢腐蚀钙,转变成氟化钙沉定,氟化物清理率达85% 二次元工作 :使用PAC(汇聚氯化铝)和PAM(高分子聚乙烯酰胺),除去橡胶胶体部分态影响物 两级进行处理 :借助多导电介质过滤水器和抗逆性炭树脂吸附,喷水氟化物质量浓度稳固在8mg/L下例 关健设配涉及:pH智能的调节软件、斜管石雕文化调节池、板框板框压滤机(飞灰脱水器)。 最后视觉效果 項目正常运行3年监控大数据提示: 氟化物峰值氧浓度:7.2mg/L(降至发展中国家条件) COD避开率:92% 生活污水含水分率:≤65% 年收售氟化钙副新产品约150吨,满足能源化利用

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