电子半导体废水怎么处理|电子半导体废水如何处理
文章来源:9ito.com | | 阅读量:103 公布时:2026-06-27
该晶圆打造厂建在豫东地,主要是生產的8寸大半导体设备晶圆,平均废水处理对其进行消费量上涨约800吨。在生產的时候中采用大量的氢氧化钠对其进行晶圆蚀刻,以至于废水处理中氟化物质量浓度高达hg200-300mg/L,远超的国家对其进行进行排放细则(10mg/L下面的)。
工业废水材料及渠道
废水处理最主要的根据六个关键环节:
晶圆蚀刻环节
:含高氧浓度氟化物(HF)、氯化铵及几瓶巨资属
化学式机械化镜面抛光(CMP)废液
:含奈米级硅颗料、充分络合剂
机械洁净废水处理方法
:含异丙醇、氯离子等有机的物
清理加工过程过程
用到"无机化学沉积自己+混疑沉积自己+深层活性炭过滤"三级分销进行处理软件系统:
一级通过成绩加工处理
:加药氯化钙和氢腐蚀钙,转变成氟化钙沉定,氟化物清理率达85%
二次元工作
:使用PAC(汇聚氯化铝)和PAM(高分子聚乙烯酰胺),除去橡胶胶体部分态影响物
两级进行处理
:借助多导电介质过滤水器和抗逆性炭树脂吸附,喷水氟化物质量浓度稳固在8mg/L下例
关健设配涉及:pH智能的调节软件、斜管石雕文化调节池、板框板框压滤机(飞灰脱水器)。
最后视觉效果
項目正常运行3年监控大数据提示:
氟化物峰值氧浓度:7.2mg/L(降至发展中国家条件)
COD避开率:92%
生活污水含水分率:≤65%
年收售氟化钙副新产品约150吨,满足能源化利用